基本信息
| 标准名称： | 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范 |
| 英文名称： | Specification for metrology pattern cells for integrated circuit manufacture |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术 >> 电子工业生产设备 >> 加工专用设备 |
| ICS分类： | 电子学 >> 集成电路、微电子学 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1997-06-20 |
| 实施日期： | 1998-03-01 |
| 首发日期： | 1997-06-20 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 中国科学院缩微电子中心 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2004-04-11 |
| 页数： | 平装16开， 页数：14， 字数：24千字 |
| 书号： | 155066.1-14349 |
适用范围
本规范规定若干种标准测试图形，用以对集成电路生产中所用的微图形设备、计量仪器和工艺进行一致的全面评估和检测。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 电子元器件与信息技术 电子工业生产设备 加工专用设备 电子学 集成电路 微电子学